光触媒用酸化チタン皮膜(Ver.1)

久々に更新します。サボってたのではない、存在自体を忘れていた。

アナターゼ型酸化チタン皮膜を作製しました。

ラバルノズル装着型のHVAFでは、皮膜作製に成功しており、
溶射協会の講演大会でも発表しましたが、
基材材料・溶射条件によっては基材が溶融する現象も発生したので、
冷却ガス(圧縮空気)を投入してガス温度を低下させ、
且つ、粉末を中心軸から投入する装置を開発しました。
その装置により、未だ基材は金属板限定ですが、安定して皮膜を作成できるようになりました。

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上の写真は湿式分解性能試験用に作製した酸化チタン皮膜。(基材SUS304)
主な溶射条件
混合室ガス温度・・・800K
混合室圧力・・・・・・0.530MPa
溶射距離・・・・・・・・50mm
移行速度・・・・・・・・20mm/min
パス回数・・・・・・・・4pass
粉末供給量・・・・・・1g/min(大よその値)

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SEM像は2月に施工した皮膜。(基材SS400)
移行速度、距離は上記と同一。
パス回数は10回。
その他の条件は、計測装置を取り付けていないので不明。
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上の図は2月に施工した皮膜と原料粉末の回折パターンである。
XRDの結果からは、原料粉末と同じパターンを示しており、
ルチル相への変態も確認できていないので、とりあえずは成功といえるでしょう。
そういうことにしておこう。

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